目前我国高铁建设和地铁建设哪个前景更好啊？
两个行业前景都非常好，据前瞻产业研究院《2016-2021年中国高铁行业市场前瞻与投资战略规划分析报告》显示，随着经济不断发展，我国正在国内兴起高铁建设热潮，不仅如此，随着传统对外贸易优势被削弱，高铁也成为我国高端制造业的“名片”，海外输出的趋势明显。得益于在国内的深耕，我国高铁产业已经具备海外竞争实力。
前瞻产业研究院指出，目前我国高铁保有量为1300余辆，数量为世界之首;累计运营16亿公里，达世界高铁运行里程的一半;高铁运行时速从200公里至380公里有多个级别，类别最为丰富;每公里高铁造价低于欧美等国1/3，工期时间短于欧美1/3;具备在极端恶劣天气中建设与运营高铁的经验……上述优势下，我国高铁制造产业正逐渐被海外国家接受。
鉴于目前全球铁路市场正以每年3.4%的速度增长，许多国家正***为列车“提速”，高铁市场有望进一步打开;“一带一路“项目不断推进之际，高铁出口市场跟随国家“一带一路”战略即将进入兑现期，上述两大因素都将为我国海外高铁发展带来利好。
与此同时，根据十三五高铁规划，今年年底高铁营运里程将达到2 万公里左右，到2020 年营运里程将达到3 万公里;中长期达到4万公里以上。海内外高铁建设将加快，高铁产业链公司将迎来利好发展。主车厂中国中车经历南车北车合并后正积极推动人才与技术等***整合，有助于未来降低成本并推动企业经营效益提升;零部件优质企业，如康尼机电、鼎汉技术、南车时代等，受益于高铁核心部件国产化和后市场爆发，有望获得超越行业的增长速度。
传上海微电子研发出11nm光刻机，请问是真的吗？有谁知道？
目前上海微电子装备中心能够生产出最好的光刻机，依然是90nm光刻机。据报道，上海微电子将在2021年交付***用ARF光源制程工艺为28纳米的光刻机。也就意味着上海微电子装备有限公司在2021年才可以制造出28nm的光刻机，显然上海微电子装备有限公司研发出11nm的光刻机，这条消息是***的。
国产光刻机与世界顶级的光刻机有多大的差距？
上海微电子装备有限公司生产的90nm光刻机就是目前我国最好的光刻机，听到这个消息，大家可能会感到非常的吃惊，但是事实就是这样的。世界上最好的光刻机是由荷兰的A***L公司生产的5nm光刻机，今年即将发布的麒麟1020处理器以及苹果A14处理器你都是***用的5nm制程工艺。
虽然说，上海微电子装备有限公司已经生产出了90nm的光刻机，但是实际意义并不是很大，也解决不了目前我国的芯片问题。90nm技术已经满足不了现在芯片的需要了，我们现在手机以及电脑使用的芯片，已经达到了14nm、7nm，甚至5nm。我们现在还停留在90nm光刻机上，所以国产光刻机与世界顶级的光刻机有着2-3代的差距，我们还需要十年左右的时间才可以达到7nm技术。
我国为什么做不出先进的光刻机？
其实我国研发光刻机的时间并不是很晚，我国做出第一台光刻机时，荷兰A***L公司都还没有成立。在八十年代的时候，我们的企业产生了“买办”的思想，很多企业觉得自己去研发，不如去买。因为研发需要投入太多的资金，并且风险也非常的大，不如直接购买国外的光刻机。从那以后，我们的光刻机技术与国外光刻机技术的差距越来越大了，以至于我们现在用十年的时间也追赶不上了。
近几年很多企业也越来越重视光刻机的研究，但是已经晚了。对于一台光刻机来说，有8万多个零件，几乎每一个零件都是世界顶级的。光刻机最重要零部件就是光源与镜头，目前极紫外光源技术只有被A***L掌握了，自然A***L不会将极紫外光源卖给我们。全球范围内能生产出最好的镜头的企业是德国蔡司，根据西方国家签订的《瓦森纳协定》，西方国家一些精密零件是不能向我国出口的。所以说即使将顶级光刻机的设计图纸给我们，我国也做不出来，这句话一点也不***。
笔者观点：
光刻机的发展并不是一蹴而就的，需要长期的积累。A***L生产的光刻机，也并非都是自己生产的，美国、日本、德国等国家都在参与。
既然我们买不到先进的光刻机以及光刻机的零件，那我们只能自己造。光刻机的问题并不是一家企业可以搞定的，需要我国整个半导体行业的共同努力！
让你失望了，上海微电孑没有研制出11纳米的光刻机。但是，再告诉你一个好消息，明年，上海微电子将研制出28纳米的光刻机，经过多次光刻后，能精确到11纳米。再告诉你个更大的好消息，我们国家的实验室里巳经研制成功了9纳米光刻机，虽然，工厂化量产还得多年以后。相信.，上海微电子所一定会不辱使命，在光刻机领域大展伸手，舞出明天中国光刻机的一片希望之所。
我现在手头就有3nm的电子束曝光机，他们搞出来11nm也毫无意义，就算是a***l下一代曝光机也是多束电子束直写了。搞这种光学曝光机感觉真的意义不大。如果真的想在曝光技术方面取得有意义的技术突破，那就应该在提高电子束直写效率方面下手，而不是去重复其他厂商走过的老路。
对于我国来说，光刻机又是一项“卡脖子”设备。上海微电子能够量产90nm工艺的光刻机，而荷兰A***L最新的光刻机可以生产5nm芯片。最新消息，2021年上海微电子交付28nm光刻机，在多次曝光的条件下，可以生产11nm芯片。这是真的吗？下文具体说一说。
上海微电子即将交付的是一台ArF光源光刻机，核心配件全部来自于国内供应链：
这些核心配件由上海微电子负责总体集成，其中华卓精科工作台的套刻精度指标优于1.7nm，经过多次曝光有生产11nm制程工艺的潜力。中微半导体也推出了5nm制程的蚀刻机，南大光电研发出193nm光刻胶，华为自研的EDA进行了7nm验证。总之，国产11nm光刻机即将来临。
目前，光刻机领域的龙头企业是荷兰的A***L，占据了80%的高端光刻机市场，其中EUV光刻机只有荷兰A***L能够生产。EUV光刻机***了世界上最先进的技术，可以说是集人类智慧于大成。
其实，荷兰A***L也只是系统集成商，90%的关键零部件来自于外来，美国的光源和计量设备、瑞典的轴承、德国的镜头、法国的阀件等等，这些超精密的仪器和设备大部分对我国是禁运的。由于技术封锁，一定程度上阻挠了我国光刻机技术的发展。
早前确实有相关的报道说上海微电子装备有限公司预计2021年要推出28nm光刻机，但是这一消息官方并没有进行公布，也就是它的可信度并不是很高。目前上海微电子做的光刻机还是以90nm为主，28nm技术应该还是实现不了量产。
最近老美对于华为打压升级，让芯片、光刻机等东西变得非常热门，越来越条友开始关注我们国产光刻机究竟处于什么水平，能不能摆脱对美方技术依赖。而我们国产光刻机处于比较领先的还是上海微电子，关于这个水平一直受到人们争议。
一些媒体报道说国产光刻机目前能够达到5nm水平了，而一些媒体又说国产光刻机还是处于一个90nm阶段，而在2018年时也曾经报道下面这条消息。
中科院的“超分辨光刻装备研制”通过相关验收，它的光刻分辨力达到22nm，结合双重曝光技术后，未来还可用于制造10nm级别的芯片。
上面还是处于实验室阶段，也就是离真正商用量产还是需要不少时间来检验。而关于这个5nm和90nm水平，不少朋友应该是混淆了光刻机和蚀刻机这两个不同机器。中微半导体的蚀刻机确实达到了5nm水平，而国产光刻机仍然处于90nm水平。
现阶段来说上海微电子做的还是突破达到28nm水平，因此这个11nm消息可信度一点也不高。这里一部分条友会有疑问，中芯国际前段时间已经不是替华为代工14nm工艺芯片了（荣耀Play4T搭载这款芯片）
其实这里也要明白，中芯国际用的也是荷兰A***L光刻机。目前中芯国际得到了大量的资金投资，现阶段它主要目标还是突破7nm技术，也就是未来可以代工7nm工艺芯片。
小晴观点
对于光刻机这个东西是急不得，首先这个基础的28nm也没有突破，就想着说直接达到这个11nm，确实有点像做梦一样。
想要在光刻机有所突破，一方面要加大相关的研发投入，研发如果跟不上一切都是纸上谈兵。再次就是重视相关人才培养，注重相关技术积累，同时也需要两弹一星这样的精神，才能够最快速度突破。
